Retour au comparatif substances toxiques dans les cosmétiques

OWAY Moisturizing hair mask

Produit rincé 150 ml
Légende

Tout-petits (0-3 ans)

Femmes enceintes

Enfants adolescents (3-16 ans)

Adultes

Population non concernée

Aucun risque identifié à ce jour

Risque limité

Risque moyen

Risque significatif

Allergènes

Composition
Aqua
Cetearyl alcohol
Myristyl alcohol
Cetrimonium chloride
Behentrimonium chloride
Myristyl lactate
C12-13 alkyl lactate
Benzalkonium chloride
Dimethicone
Amodimethicone/morpholinomethyl silsesquioxane
Amodimethicone
Mel
Astrocaryum murumuru seed butter
Corylus avellana leaf extract
Citrus aurantium dulcis peel oil
Cinnamomum zeylanicum leaf oil
Vanilla planifolia fruit extract
Citric acid
Trideceth-5
Glycerin
Trideceth-12
Sodium benzoate
Potassium sorbate
Magnesium nitrate
Magnesium chloride
Methylchloroisothiazolinone
Methylisothiazolinone
Limonene
Eugenol

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