Retour au comparatif substances toxiques dans les cosmétiques

ROUND LAB Pine calming cica mask

Produit non rincé

Soins du visage > Masques

Légende

Tout-petits (0-3 ans)

Femmes enceintes

Enfants adolescents (3-16 ans)

Adultes

Population non concernée

Aucun risque identifié à ce jour

Risque limité

Risque moyen

Risque significatif

Allergènes

Composition
Water
Glycerin
Dipropylene glycol
Glycereth-26
Butylene glycol
1,2-hexanediol
Hydroxyacetophenone
Carbomer
Tromethamine
Pinus densiflora leaf extract
Propanediol
Polyglyceryl-4 caprate
Polyglyceryl-6 caprylate
Chondrus crispus
Ethylhexylglycerin
Xanthan gum
Hydroxyethylcellulose
Disodium edta
Biosaccharide gum-1
Capryloyl salicylic acid
Ammonium polyacryloyldimethyl taurate
Portulaca oleracea extract
Centella asiatica extract
Hyaluronic acid
Hydrolyzed hyaluronic acid
Sodium hyaluronate
Glycoproteins
Asiaticoside
Asiatic acid
Madecassoside
Madecassic acid

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